Техническое описание
Коронный разряд с напряжением около 10 электрон-вольт воздействует только на поверхностный слой подложки, выбивая из него частицы с ослабленными связями. В результате коронной обработки поверхностный слой освобождается от части загрязнений и в его структуре обнажаются молекулярные связи, также образуются нано-шероховатости.
Форсунки коронного разряда установлены на алюминиевых мостах, расположенных перпендикулярно направлению движения подложек, и производят возвратно-поступательные движения, равномерно обрабатывая поверхность подложки.
Для обеспечения чистоты рабочего пространства зона обработки закрыта технической витриной. В её своде установлен приточный вентилятор с фильтром, благодаря чему внутри камеры станции создаётся избыточное давление очищенного воздуха. Под конвейером располагаются патрубки коллектора, которые соединяются в нижней части установки с выхлопным трубопроводом.
При попадании на подложку наносимого следом за коронной обработкой материала (гидрофобного состава), активированные молекулы подложки устанавливают прочные ковалентные связи, которые обеспечивают устойчивость соединения к химическим воздействиям. Повышенная коронной обработкой нано-рельефность подложки обеспечивает сцепление на большей площади, а следовательно более высокую адгезию и износостойкость нанесенного материала.
Система обработки коронным разрядом предназначена для активирования поверхности подложки. Применительно к технологии нанесения гидрофобных покрытий она используется для улучшения адгезии наносимых составов.
| Ширина обработки, мм | Конфигурация исполнительного механизма |
| 1600 - 2200 | Две пары форсунок |
| 2500 | Две группы по три форсунки |
| 3200 | Три пары форсунок |